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离子注入设备
可对应低速高浓度的离子注入设备SOPHI-30
可对应低速高浓度的离子注入设备SOPHI-30
低加速、高浓度对应的离子注入设备。
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高能对应离子注入设备SOPHI-400
高能对应离子注入设备SOPHI-400
SOPHI-400
最大可对应至2400KeV的高能离子注入装置。
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研究开发用中电流离子注入设备IMX-3500
研究开发用中电流离子注入设备IMX-3500
IMX-3500
中电流离子注入装置IMX-3500为最大能量200keV、对应最大晶圆尺寸8inch的离子注入装置，适用于大学等机构的研究开发。
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SiC用高温离子注入设备 IH-860DSIC
SiC用高温离子注入设备 IH-860DSIC
IH-860系列
搭载了高温ESC（静电吸附卡盘）的面向SiC量产用的高能粒子注入装置。
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