刻蚀设备_爱发科商贸(上海)有限公司

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刻蚀设备
- 量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800
  
  量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800
  
  NE-5700/NE-7800
  
  量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。
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- 高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
  
  高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
  
  NE-7800系列
  
  高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。
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- 研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
  
  研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
  
  NLD系列
  
  研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科独创的磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。
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- 干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX
  
  干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX
  
  NE-950系列
  
  对应LED量产专用的干法刻蚀设备?NE-950EX?相对我司以往设备实现了140%的生产力。是搭载了ICP高密度等离子源和爱发科独自开发的星型电极的干法刻蚀设备。
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- 对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700
  
  对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700
  
  对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（此爱发科独创的NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子）
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- 批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300
  
  批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300
  
  RISE系列
  
  批处理式自然氧化膜去除设备RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等难以去除的自然氧化膜的批处理式预清洗装置?？纱?00mm，300mm尺寸晶圆。
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