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量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800

量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800

NE-5700/NE-7800

量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800是可以对应单腔及多腔、重视性价比拥有扩展性的刻蚀设备。
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枚叶式PECVD设备CME-200E/400

枚叶式PECVD设备CME-200E/400

CME-200E/400

枚叶式PE-CVD设备CME-200E/400是最适用于Si系绝缘膜、barrier膜等成膜的量产用PECVD设备。
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可对应低速高浓度的离子注入设备SOPHI-30

可对应低速高浓度的离子注入设备SOPHI-30

低加速、高浓度对应的离子注入设备。
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高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H

高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H

NE-7800系列

高密度等离子客户装置ULHITE NE-7800H是对应刻蚀FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高难度刻蚀材料（强电介质层、贵金属、磁性膜等）的Multi-Chamber型低压高密度等离子刻蚀设备。
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高能对应离子注入设备SOPHI-400

高能对应离子注入设备SOPHI-400

SOPHI-400

最大可对应至2400keV的高能离子注入装置。
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研究开发用中电流离子注入设备IMX-3500

研究开发用中电流离子注入设备IMX-3500

IMX-3500

中电流离子注入装置IMX-3500为最大能量200keV、对应最大晶圆尺寸8 inch的离子注入装置，适用于大学等机构的研究开发。
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